Meritev Boltzmannove konstante $ k_b $ je osnovana na diskusiji tokov znotraj bipolarnega tranzistorja (angl. bipolar-junction transistors - BJT) z oznako n-p-n . Bipolarni tranzistorji so najbolj klasični tip tranzistorja sestavljeni iz dveh p-n stikov. Naš bipolarni tranzistor ima tri kontakte imenovane kolektor, emitor in baza. Kolektor in bazo v vaji kratko sklenemo kot je to prikazano na sliki 1 in merimo odvisnost toka skozi kolektor - kolektorskega toka $I_C$ od napetosti med bazo in emitorjem $U_{BE}$. Teoretična napoved te odvisnosti je podana z Ebers-Mollovo enačbo:
$ I_C = I_S(T) \left[ \exp\left(\frac{e_0 U_{BE}}{k_B T}\right) - 1 \right]$
kjer je $e_0$ osnovni naboj, T absolutna temperatura, $U_{BE}$ pozitivna napetost med bazo in emitorjem ter $I_S(T)$ velikost nasičenega toka v zaporni smeri. Ze za majhne pozitivne napetosti $U_{BE}$ je eksponentni člen v zgornji enačbi dosti večji kot 1 in zato lahko v tem režimu enačbo brez prave izgube natančnosti poenostavimo v
$ I_C = I_S(T) \left[ \exp\left(\frac{e_0 U_{BE}}{k_B T}\right) \right]$,
Pri večini silicijevih tranzistorjev ta relacija držo točneje od 1% v območju več kot 6 dekad toka kolektorja t.j. od nA do mA. V praksi pogosto razmišljamo o tranzistorju kot ojačevalcu toka skozi bazo t.i. baznega toka $I_B$ in ga zato povežemo s kolektorskim tokom $I_C$ preko faktorja ojačanja β v obliki zveze
$I_C = \beta I_B$
Tipične vrednosti za faktor ojačanja se gibljejo od 20 do 200. Bazni in kolektorski tok pa skupaj tvorita tok skozi emitor - emitorski tok $I_E = I_C + I_B$. Predstavljeno tokovno-napetostno (I − U) karakteristiko tranzistorja lahko uporabimo za hitro in enostavno merjenje razmerja dveh osnovnih konstant $e_0$ ter $k_B$; lahko pa ta odvisnost služi za merjenje temperature, kakor bomo videli kasneje. Shematično je električna vezava pri meritvi prikazana na sliki 1. Električno prevodnost p-n stika pri napetosti v prevodni smeri določa več mehanizmov, med drugimi so to: difuzija nosilcev naboja preko zaporne plasti, generacija in rekombinacija nosilcev naboja znotraj zaporne plasti ter tuneliranje nosilcev naboja med nivoji v vrzeli, pa tudi površinski efekti, kjer površinski ioni tvorijo zrcalne naboje znotraj polprevodnika, itd.

Slika 1: Shema vezave eksperimenta (npn). Z baterijo preko nastavljivega upora določimo napetost med bazo in emitorjem n-p-n tranzistorja in merimo kolektorski tok. Barvne oznake priključkov tranzistorja so: E - črna, B - rdeča in C - zelena.
Vsak od teh mehanizmov zavisi na različen način od napetosti in prispeva svoj delež toka preko stika. Difuzija nabojev oz. difuzijski tok je za nizke gostote toka dobro opisan z enačbo. Tok zaradi generacije in rekombinacije nosilcev naboja, t.i. rekombinacijski tok $I_{rec}$, se pojavi pri večjih gostotah tokov in je sorazmeren z nekoliko drugačnim eksponentom $I_{rec} \approx \exp \left( \frac{e_0 U_{BE}}{2k_BT} \right)$. Drugi prispevki imajo bolj komplicirane odvisnosti od napetosti. Pri diodah, ki vsebujejo le en p-n stik, prispevajo k prevodnosti vsi prej našteti mehanizmi, zato diode niso primerne za določanje razmerja $\frac{e_0}{k_b}$. Na našem bipolarnem tranzistorju kratko sklenemo bazo in kolektor. S tem dosežemo, da z napetostjo med bazo in emitorjem v prevodni smeri kolektorski tok določa le difuzija elektronov preko zaporne plasti od baze na kolektor (oz. nosilev naboja v drugo smer) in zato njegovo karakteristiko dobro opiše prva enačba.
V prvem delu vaje smo pri konstantnih temperaturah izmerili odvisnost $I_C$ od spremenljive napetosti $U_BE$. V toplotno izolirani posodi smo v vodni bazen potopili termometer ter tranzistor in prek potenciometra spreminjali napetost. Meritve smo odčitavali s pomočjo računalnika. Na podlagi enačb iz uvoda, lahko zaradi lastnosti tranzistorja iz teh odvisnosti izračunamo razmerje $e_0 / k_b $.
| $$ T [ ^\circ C] \pm 3^\circ C $$ | $$ k \; \mathrm{premice} $$ | $$ \Delta k$$ | $$ (e_0 / k_b)_m [K] $$ | $$ \Delta (e_0 / k_b)_m [K] $$ | $$ (e_0 / k_b)_i [K] $$ | $$ \frac{(e_0 / k_b)_m}{(e_0 / k_b)_i} [\%] $$ | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 288.000000 | 39.111271 | 0.027920 | 11264.046150 | 117.609026 | 11604.518122 | 98.079516 |
| 2 | 308.000000 | 37.283846 | 0.007012 | 11483.424674 | 111.872388 | 11604.518122 | 99.920539 |
| 3 | 327.000000 | 35.016990 | 0.020091 | 11450.555697 | 105.256200 | 11604.518122 | 99.580282 |
| Povprečje | 307.666667 | 37.137369 | 0.018341 | 11399.342174 | 111.579204 | 11604.518122 | 99.193446 |
Enačba premice: $ \ln{(I_C / I_0)} = \ln{(I_S(T) / I_1)} + \frac{e_0}{k_b T} U_{BE} $
Naklon premice v tem primeru predstavlja vrednost $\frac{e_0}{k_bT}$. Koeficient pomnožimo s temperaturo pri kateri smo izvajali meritev in dobimo našo oceno vrednosti $e_0 / k_b$. Vrednost je (z upoštevanim intervalom nedoločenosti) manj kot 1 % stran od dejanske vrednosti razmerja.
Odvisnost lahko opišemo pribložno z enačbo $I_{S} \approx \alpha \, T^n \exp \left( \frac{-E_g (T)}{k_BT} \right)$, kjer sta $\alpha$ in $n$ praktično neodvisna od temperature in močno zavisita od načina izdelave tranzistorja, $E_g$ pa je širina energetske vrzeli nedopiranega silicija, ki je odvisna od temperature